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本實(shí)用新型提供了一種入射電磁波的增透裝置，所述增透裝置包括基底介質(zhì)和用于改變電磁波入射界面的反射、投射系數(shù)大小和相位的金屬光柵，所述金屬光柵包括若干個(gè)相互平行的條形金屬，若干個(gè)所述的條形金屬沿所述基底介質(zhì)的寬度方向依次等間距排列，所述金屬光柵設(shè)置在所述基底介質(zhì)的一側(cè)，電磁波從所述金屬光柵所在的一側(cè)入射，并依次透過所述金屬光柵和基底介質(zhì)。該增透裝置能夠在基底介質(zhì)寬度較大的范圍內(nèi)顯著地減小反射，增大電磁波的透過率；同時(shí)，通過調(diào)節(jié)金屬光柵的寬度和周期，可調(diào)節(jié)電磁波的透射率。具體使用時(shí)，只需設(shè)定目標(biāo)透射率，然后找到合適的金屬光柵的寬度和周期即可，給實(shí)際應(yīng)用帶來了很大的便利。

機(jī)械設(shè)備>其它機(jī)械設(shè)備類>入射電磁波反射裝置